CVD鑽石和HPHT鑽石都是指培育鑽石(亦稱實驗室鑽石、未來鑽石、人造鑽石)。
鑽石不只在珠寶市場具有祟高地位，它的特性及硬度在不少產業或科技領域中也具重要應用；但開採成本高昂，以至難以十分廣泛地應用。培育鑽石由十多年前已在珠寶市場掀起不少討論聲浪，希望能以人工方式於實驗室製作出與天然鑽石同樣成分的培育鑽石，以減低天然鑽石的需求及更能應用在各個領域的發展中。
無奈早年科技仍不夠成熟，開發培育鑽石的成本比開採天然鑽石的成本更高，成品更未達到寶石級的要求，因此珠寶市場上所見的鑽石仍是以天然鑽石為主。隨時間發展，技術提升及成本的下降，培育鑽石近年得以推出於珠寶市場；現時的培育鑽石主要分為CVD和HPHT兩種。
CVD鑽石(培育鑽石)
CVD技術(Chemical Vapor Deposition)是指「化學蒸氣沉積法」。於存放著鑽石種子(一塊很小的天然鑽石)的特定真空環境中引入含碳原子(鑽石的成份是碳原子)的化學氣體，利用微波及高溫令氣體中的碳原子活化並釋放出來，令碳原子沉積在鑽石種子上，持續進行並累積生長成鑽石晶體；於生長週期內會定期取出該原石打磨表面，並除去該表面的非碳原子元素。雖然CVD技術會在過程中伴隨地產生不同的副產品，但大多會隨著氣流被帶走，而不會留在鑽石種子上。因此，以CVD技術生成的CVD培育鑽石是比較容易控制鑽石的淨度。
HPHT鑽石(培育鑽石)
HPHT技術(High Pressure High Temperature)是指「高溫高壓法」。模仿天然鑽石的生長過程，將鑽石種子放置於指定的高壓力及高溫度條件的空間內，將純碳材料（如石墨）熔化分解碳原子，借助其他金屬助熔劑，降低鑽石生長所需的條件，碳材料會借助助熔劑向鑽石種子移動並結晶，形成鑽石晶體。HPHT培育鑽石的生成對技術及儀器要求較CVD培育鑽石更高，但是以往的HPHT培育鑽石有可能會帶有金屬助熔劑的內含物。
近年，鑽石培育的技術大幅提升，處理成本隨之下降；HPHT培育鑽石成品帶有金屬內含物的缺點已經得到穩定改善；CVD培育鑽石亦能製造出合符成本效益及市場需求的鑽石，將可持續發展的培育鑽石推出市場。
即使CVD和HPHT兩種培育鑽石的種類不同，但這種不同只是在製成方法上的分別，是按兩個不同的理論去生成，但製成出來同樣是鑽石，同樣擁有鑽石證書和同樣按鑽石的4C去評級。現時，大多數可買得到的培育鑽石，品質都已經能達至成色優秀及高淨度的天然鑽石。
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